GaN-on-SiC基板
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GaN-on-SiC基板

Semicorex グラファイト サセプタは、中国で高い耐熱性と耐腐食性を備えたエピタキシー装置用に特別に設計されました。当社の GaN-on-SiC 基板サセプタは価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカ市場の多くをカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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製品説明

薄膜堆積段階やウェーハハンドリング処理で使用される GaN-on-SiC 基板ウェーハキャリアは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、高純度 SiC コーティングされた GaN-on-SiC 基板サセプタを提供しています。優れた耐熱性、一貫したエピ層の厚さと抵抗のための均一な熱均一性、および耐久性のある耐薬品性を提供します。微細な SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を提供します。これは、新品のウェーハがその領域全体の多くの点でサセプタと接触するため、取り扱いにとって重要です。

Semicorex では、高品質でコスト効率の高い製品をお客様に提供することに重点を置いています。当社の GaN-on-SiC 基板サセプタは価格面での優位性があり、多くのヨーロッパおよびアメリカの市場に輸出されています。当社は、一貫した品質の製品と優れた顧客サービスを提供し、お客様の長期的なパートナーとなることを目指しています。


GaN-on-SiC 基板サセプタのパラメータ

CVD-SICコーティングの主な仕様

SiC-CVDの特性

結晶構造

FCC βフェーズ

密度

g/cm3

3.21

硬度

ビッカース硬さ

2500

粒度

μm

2~10

化学純度

%

99.99995

熱容量

J kg-1 K-1

640

昇華温度

2700

感覚の強さ

MPa(室温4点)

415

ヤング率

Gpa (4pt曲げ、1300℃)

430

熱膨張 (C.T.E)

10-6K-1

4.5

熱伝導率

(W/mK)

300


GaN-on-SiC基板サセプタの特長

- グラファイト基板と炭化ケイ素層は両方とも良好な密度を備えており、高温および腐食性の作業環境において良好な保護役割を果たします。

- 単結晶成長に使用される炭化ケイ素コーティングされたサセプタは、非常に高い表面平坦性を持っています。

- グラファイト基板と炭化ケイ素層の熱膨張係数の差を低減し、接着強度を効果的に向上させ、亀裂や層間剥離を防ぎます。

・グラファイト基材と炭化ケイ素層はいずれも熱伝導率が高く、熱分布特性に優れています。

- 高融点、高温酸化耐性、耐食性。





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