エピタキシャル成長におけるスペアパーツ

エピタキシャル成長における Semicorex のスペアパーツは、特に石英管のセットアップを伴うプロセスにとって非常に重要です。これらの部品は、ガスの流れを促進してトレイベースの回転を促進し、エピタキシャル成長プロセス全体を通じて正確な温度制御を保証するために不可欠です。 Semicorex のエピタキシャル成長用スペアパーツ (通称ハーフパーツ) は、エピタキシャル成長チャンバー特有の高温や腐食環境に耐えるよう細心の注意を払って設計されています。炭化ケイ素 (SiC) から作られており、優れた熱的および化学的安定性を備えているため、このような要求の厳しい用途には理想的な選択肢となります。 SiC の使用により、これらの部品は最も困難な条件にも耐えることができます。

エピタキシャル成長のスペアパーツは三日月の形に似ており、石英管アセンブリ内にぴったりと収まるように設計されています。独自の半月型構成により、システムへの挿入と取り外しが容易になり、メンテナンスと交換の手順が効率的かつ正確に容易になります。

エピタキシャル成長におけるスペアパーツは複数の目的に役立ちます。第一に、エピタキシャル成長プロセスに不可欠なガスの制御された供給に役立ちます。ガスの流量と分布を制御することにより、所望の材料特性とデバイス性能を達成するために重要な、基板表面への半導体材料の均一な堆積を保証します。

エピタキシャル成長におけるスペアパーツは、成長チャンバー内のトレイベースの回転運動に寄与します。この回転は、堆積材料の均一な分布を促進し、エピタキシャル層における凹凸や欠陥の形成を防ぐために極めて重要です。