固体炭化ケイ素フィン

セミコレックスソリッド炭化ケイ素フィンRTPアニール炉や拡散炉などの半導体熱処理装置の縦型炉心管内の断熱部品として設置されるのが一般的です。 Semicorex 固体炭化ケイ素フィンは、高温炉内の温度分布を効果的に調整し、高温によって引き起こされるプロセス ドア シール部品への熱損傷を最小限に抑えることができます。湿式酸化操作条件では、Semicorex 固体炭化ケイ素フィンを使用して、比較的低いプロセス温度での水蒸気の凝縮によって引き起こされるプロセス結果や半導体デバイスへの悪影響を効果的に防止できます。

Semicorex 固体炭化ケイ素フィンの利点

1. 優れた耐摩耗性

CVD SiC は多結晶立方晶構造を特徴とし、ダイヤモンドに次ぐ優れた硬度を備えています。 Semicorex 固体炭化ケイ素フィンの優れた耐摩耗性はこの特性によるものであり、取り扱いや交換時の摩耗に耐えることができます。

2. 優れた熱管理能力

CVD SiC は優れた耐熱性と高温安定性を実現し、約 2000 ℃ までの温度でも溶融または軟化せず、超高温で昇華するまで安定性を維持します。この優れた熱特性のおかげで、Semicorex 固体炭化ケイ素フィンは、困難な半導体熱処理プロセス条件に非常に適しています。

3. 超高清浄度

CVD-SiC堆積プロセス中に焼結添加剤を使用せずに製造されます。従来の反応結合炭化ケイ素と比較して、純度が99.9995%以上と非常に高いのが特徴です。これにより、プロセス環境の高温によって引き起こされる Semicorex 固体炭化ケイ素フィンの金属不純物汚染が効果的に防止され、高度な半導体製造の清浄度要件を完全に満たします。

4. 安心の耐食性

Semicorex 固体炭化ケイ素フィンは、高温における CVD SiC の優れた化学的不活性により、半導体の熱処理プロセスで使用される酸化性と強酸性のプロセスガスに耐えることができます。この信頼性の高い耐食性により、耐用年数が効果的に延長され、コンポーネントの交換コストが削減されます。

5. 精密な加工精度

さまざまな炉管との互換性を確保するために、Semicorex では、直径、厚さ、穴サイズ、平坦度、寸法公差などの顧客の要件に応じて固体炭化ケイ素フィンをカスタマイズできます。この高水準の加工精度により、装置内のフィンの安定した動作が保証され、半導体熱処理用途の全体的な効率の最適化に役立ちます。