SiC コーティングは、化学蒸着 (CVD) プロセスを通じてサセプタ上に薄い層を形成します。炭化ケイ素材料は、破壊電界強度が 10 倍、バンドギャップが 3 倍であるなど、シリコンに比べて多くの利点をもたらし、材料に高温耐性、耐薬品性、優れた耐摩耗性、熱伝導性をもたらします。
Semicorex はカスタマイズされたサービスを提供し、耐久性の高いコンポーネントによる革新、サイクル タイムの短縮、歩留まりの向上を支援します。
SiC コーティングにはいくつかのユニークな利点があります
高温耐性: CVD SiC コーティングされたサセプターは、重大な熱劣化を受けることなく、最大 1600°C の高温に耐えることができます。
耐薬品性: 炭化ケイ素コーティングは、酸、アルカリ、有機溶剤などの幅広い化学薬品に対して優れた耐性を示します。
耐摩耗性: SiC コーティングにより、材料は優れた耐摩耗性を備えているため、摩耗や損傷が激しい用途に適しています。
熱伝導率: CVD SiC コーティングは材料に高い熱伝導率を提供し、効率的な熱伝達が必要な高温用途での使用に適しています。
高強度と剛性: 炭化ケイ素でコーティングされたサセプタは、材料に高い強度と剛性を提供し、高い機械的強度を必要とする用途に適しています。
SiCコーティングは様々な用途に使用されています
LED製造: CVD SiCコーティングされたサセプタは、その高い熱伝導率と耐薬品性により、青色および緑色LED、UV LED、深UV LEDを含むさまざまなタイプのLEDの製造プロセスに使用されます。
モバイル通信: CVD SiC コーティングされたサセプタは、GaN-on-SiC エピタキシャル プロセスを完了するための HEMT の重要な部分です。
半導体処理: CVD SiC コーティングされたサセプタは、半導体業界でウェーハ処理やエピタキシャル成長などのさまざまな用途に使用されています。
SiC コーティングされたグラファイトコンポーネント
炭化ケイ素コーティング (SiC) グラファイトで作られており、コーティングは CVD 法によって特定グレードの高密度グラファイトに適用されているため、不活性雰囲気では 3000 °C 以上、真空では 2200 °C 以上の高温炉で動作できます。 。
材料の特殊な特性と低質量により、速い加熱速度、均一な温度分布、および優れた制御精度が可能になります。
セミコレックスSiCコーティングの材料データ
代表的な特性 |
単位 |
価値観 |
構造 |
|
FCC βフェーズ |
向き |
割合(%) |
111 が望ましい |
かさ密度 |
g/cm3 |
3.21 |
硬度 |
ビッカース硬さ |
2500 |
熱容量 |
J kg-1 K-1 |
640 |
熱膨張 100 ~ 600 °C (212 ~ 1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
ヤング率 |
Gpa (4pt曲げ、1300℃) |
430 |
粒度 |
μm |
2~10 |
昇華温度 |
℃ |
2700 |
感覚の強さ |
MPa(室温4点) |
415 |
熱伝導率 |
(W/mK) |
300 |
結論 CVD SiC コーティングされたサセプタは、サセプタと炭化ケイ素の特性を組み合わせた複合材料です。この材料は、高温耐性、耐薬品性、優れた耐摩耗性、高い熱伝導率、高い強度と剛性などのユニークな特性を備えています。これらの特性により、半導体処理、化学処理、熱処理、太陽電池製造、LED 製造などのさまざまな高温用途にとって魅力的な材料となっています。
Semicorex の ICP エッチング ウェーハ ホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP エッチング キャリア プレートは、要求の厳しいウェーハの取り扱いや薄膜堆積プロセスに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および層流のガス流パターンを提供します。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP エッチングプロセス用ウェーハホルダーは、要求の厳しいウェーハハンドリングや薄膜堆積プロセスに最適です。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および一貫した信頼性の高い結果をもたらす最適な層流ガス フロー パターンを誇ります。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP シリコン カーボン コーティング グラファイトは、要求の厳しいウェーハの取り扱いや薄膜堆積プロセスに理想的な選択肢です。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、最適な層流パターンを誇ります。
続きを読むお問い合わせを送信高品質のエピタキシーおよび MOCVD プロセスには、PSS プロセス用の Semicorex の ICP プラズマ エッチング システムをお選びください。当社の製品はこれらのプロセス向けに特別に設計されており、優れた耐熱性と耐腐食性を備えています。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP プラズマ エッチング プレートは、ウェーハのハンドリングや薄膜堆積プロセスに優れた耐熱性と耐腐食性を提供します。当社の製品は、高温や過酷な化学洗浄に耐えるように設計されており、耐久性と寿命が保証されています。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
続きを読むお問い合わせを送信