SiCコーティングリング

Semicorex SiC コーティング リングは、その先進的な材料特性とエンジニアリングにより、半導体エピタキシャル プロセスにおいて重要な役割を果たします。

炭化ケイ素 (SiC) は優れた熱伝導率で知られており、ウェーハ全体で均一な温度分布を維持するのに役立ちます。この均一性は、欠陥を最小限に抑えた高品質のエピタキシャル層を実現するために重要です。 SiC コーティングされたリングは、エピタキシャル堆積プロセス中に必要とされる極端な温度に耐えることができます。高温での安定性により、寿命と一貫したパフォーマンスが保証され、汚染や機器の故障のリスクが軽減されます。

SiC の機械的堅牢性により、SiC コーティングされたリングはエピタキシャル プロセス中にウェーハをしっかりと支持できます。高い硬度と耐久性により、物理的ストレスや熱サイクルにも変形や摩耗なく耐えることができます。高い熱安定性、化学的不活性性、機械的強度の組み合わせにより、SiC コーティング リングの寿命が大幅に延長されます。この長寿命により、メンテナンスコストが削減され、交換頻度が減り、プロセス全体の効率が向上します。

Semicorex SiC コーティング リングは、半導体エピタキシャル プロセスにおける重要なコンポーネントであり、現代の半導体製造の厳しい要求を満たすために必要な安定性、耐久性、および性能を提供します。その高度な特性により高品質のウェーハの生産が保証され、エピタキシャル成長プロセスの全体的な効率と有効性に貢献します。