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製品
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ICPエッチングプロセス用SiCプレート
Semicorex の ICP エッチングプロセス用 SiC プレートは、薄膜堆積やウェーハハンドリングにおける高温で過酷な化学処理要件に最適なソリューションです。当社の製品は優れた耐熱性と均一な熱均一性を誇り、一貫したエピ層の厚さと抵抗を保証します。当社の高純度 SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を備えており、新品のウェーハに最適なハンドリングを提供します。
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SiCコーティングされたICPエッチングキャリア
Semicorex SiC コーティングされた ICP エッチング キャリアは、中国で高い耐熱性と耐食性を備えたエピタキシー装置向けに特別に設計されました。当社の製品は価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカの市場の多くをカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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PSSエッチング用エッチングキャリアホルダー
Semicorex の PSS エッチング用エッチング キャリア ホルダーは、最も要求の厳しいエピタキシー装置用途向けに設計されています。当社の超高純度グラファイトキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 SiC コーティングされたキャリアは、優れた熱分布特性と高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場で広く使用されており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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ウエハ搬送用PSSハンドリングキャリア
Semicorex のウェーハ搬送用 PSS ハンドリング キャリアは、最も要求の厳しいエピタキシー装置アプリケーション向けに設計されています。当社の超高純度グラファイトキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 SiC コーティングされたキャリアは、優れた熱分布特性と高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場で広く使用されており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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PSSエッチング用途向けシリコンエッチングプレート
Semicorex の PSS エッチング アプリケーション用シリコン エッチング プレートは、エピタキシャル成長およびウェーハ ハンドリング プロセス用に特別に設計された高品質の超高純度グラファイト キャリアです。当社のキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 PSS エッチング用途用のシリコン エッチング プレートは、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場で広く使用されており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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PSS ウエハ処理用エッチングキャリアトレイ
Semicorex のウェーハ処理用 PSS エッチング キャリア トレイは、要求の厳しいエピタキシー装置アプリケーション向けに特別に設計されています。当社の超高純度グラファイトキャリアは、MOCVD、エピタキシーサセプタ、パンケーキまたはサテライトプラットフォーム、エッチングなどのウェーハハンドリングプロセスなどの薄膜堆積フェーズに最適です。 PSSウエハ処理用エッチングキャリアトレイは、高い耐熱性、耐食性、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備えています。当社の製品は費用対効果が高く、価格面でも大きなメリットがあります。当社は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場に対応しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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