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SiCセラミック真空チャック

Semicorex SiCセラミック真空チャックは、炭化ケイ素セラミックから製造された精密真空吸着装置で、加工や検査中に半導体ウエハを特定の位置に正確かつ安定して位置決めできます。 Semicorex SiC セラミック真空チャックを使用すると、半導体製造の歩留まりが向上し、半導体デバイスの性能が向上し、全体的な製造コストが削減されます。

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Semicorex グラファイトヒーターは、半導体炉の超高純度および高温要件に合わせて設計された精密設計の抵抗発熱体で、特に MOCVD、CVD、および SiC 結晶成長プロセス用に最適化されています。 Semicorex との提携により、優れた静水圧グラファイトと高度なコーティング技術を組み合わせたオーダーメイドの加熱ソリューションが提供され、業界をリードする熱均一性、汚染ゼロ性能、および総所有コスト (TCO) の大幅な削減が保証されます。

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多孔質タンタルカーバイドリング

Semicorex 多孔質炭化タンタルリングは、炭化ケイ素 (SiC) 結晶成長の物理蒸気輸送 (PVT) プロセス用に特別に設計された高性能耐火部品で、優れた熱安定性と制御されたガス透過性を提供するモノリシック焼結構造を特徴としています。

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RTA SiC ウェーハキャリア

Semicorex RTA SiC ウェーハキャリアは、半導体製造における急速熱アニールプロセス用に特別に設計された、重要なウェーハ搬送ツールです。 Semicorex RTA SiC ウェハキャリアは、急速熱アニールプロセスに最適なソリューションであり、半導体製造の歩留まりを向上させ、半導体デバイスの性能を向上させるのに役立ちます。

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TaC コーティングされたグラファイトウェーハサセプタ

Semicorex TaC コーティングされたグラファイトウェハサセプタは、高度な半導体エピタキシャルプロセス中に半導体ウェハを安定して支持し、位置決めするために通常適用される最先端のコンポーネントです。 Semicorex は、最先端の生産技術と成熟した製造経験を活用して、市場をリードする品質のカスタム設計の TaC コーティンググラファイトウェハサセプタを大切なお客様に提供することに尽力しています。

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CVD TaC コーティングサセプタ

Semicorex CVD TaC コーティングサセプタは、緻密な TaC コーティングを施した高性能グラファイトサセプタで、要求の厳しい SiC エピタキシャル成長プロセスに優れた熱均一性と耐食性を提供するように設計されています。 Semicorex は、高度な CVD コーティング技術と厳格な品質管理を組み合わせて、世界的な SiC エピメーカーから信頼される長期耐久性の低汚染サセプタを提供します。

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