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製品
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SiCセラミック伝熱プレート
Semicorex SiC セラミック伝熱プレートは、主材料として SiC をベースにしており、2250°C での高温焼結を経て、SiC 含有量が 99.3% 以上の高度にガラス化された気孔のない緻密なセラミック体が得られます。 410MPa以上の曲げ強度と140W/m.kの熱伝導率を示すこれらのセラミックは、半導体産業においてフッ化水素酸(HF)や硫酸(H2SO4)などの強酸による腐食に耐えることができる唯一の材料です。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能 SiC セラミック伝熱プレートの製造と供給に専念しています。 **
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炭化ケイ素セラミック構造部品
Semicorex 炭化ケイ素セラミック構造部品は、焼結によって結合された炭化ケイ素の粒子から得られ、自動車、機械、化学、半導体、宇宙技術、マイクロエレクトロニクス、エネルギー分野で幅広く使用されており、これらの業界のさまざまな用途で重要な役割を果たしています。炭化ケイ素セラミック構造部品は、その優れた特性により、高温、高圧、腐食、摩耗を特徴とする過酷な条件に理想的な材料となっており、困難な動作環境でも信頼性の高い性能と寿命を実現します。**
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高気孔率の極薄グラファイト
Semicorex の高気孔率超薄グラファイトは主に半導体産業、特に優れた表面接着力、優れた耐熱性、高い気孔率、優れた機械加工性を備えた極薄厚さを特徴とする単結晶成長プロセスで使用されます。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した、多孔度の高い高性能極薄グラファイトの製造と供給に専念しています。 **
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2インチ酸化ガリウム基板
Semicorex 2 インチ酸化ガリウム基板は、大量生産と商業化のペースが加速しており、第 4 世代半導体の物語の新たな章を表しています。これらの基板は、さまざまな高度な技術アプリケーションに対して優れた利点を示します。酸化ガリウム基板は、製品の大幅な進歩を象徴するだけではありません。 Semicorex は、品質とコスト効率を融合した高性能 2 インチ酸化ガリウム基板の製造と供給に専念しています。**
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4インチ酸化ガリウム基板
Semicorex 4 インチ酸化ガリウム基板は、大量生産と商業化のペースが加速しており、第 4 世代半導体の物語の新たな章を表しています。これらの基板は、さまざまな高度な技術アプリケーションに対して優れた利点を示します。酸化ガリウム基板は、製品の大幅な進歩を象徴するだけではありません。 Semicorex は、品質とコスト効率を融合した高性能 4 インチ酸化ガリウム基板の製造と供給に専念しています。**
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