惑星受容器

Semicorex Planetary Commenceptorは、Aixtron G5+機器用に特別に設計された半導体エピタキシー反応器に不可欠なコンポーネントです。高純度のグラファイトから構成されています炭化シリコン（原文）でコーティング、この容疑者は、高温環境で優れた熱安定性、例外的な耐薬品性、および比類のないパフォーマンスを保証します。

AIXTRON G5+エピタキシー反応器は、GAN、SIC、およびその他の化合物半導体成長プロセスの業界のベンチマークとして立っています。惑星受容器は、ガスの流れを最適化し、正確なウェーハの回転を確保し、正確な温度制御を維持し、エピタキシャル層の均一な堆積を達成する上で極めて重要です。その革新的な設計は、プロセスの再現性を大幅に向上させ、大量の生産環境に理想的な選択肢となっています。

重要な機能  

- 高度な材料組成：SICコーティングを備えた高純度のグラファイトから作られ、耐久性と過酷なプロセス条件に対する耐性を提供します。  

- 最適化された熱性能：高精度のエピタキシャル層の成長に重要な均一な熱分布を保証します。  

- 耐薬品性：SICコーティングはグラファイトの酸化を防ぎ、受容器の寿命を延ばし、プロセスの純度を維持します。  

- 精密エンジニアリング：Aixtron G5+システムの厳しい要件を満たすように設計され、シームレスな統合と最適な反応器効率を確保します。  

- 表面の均一性が高い：粒子の汚染を最小限に抑え、半導体製造における優れたウェーハの品質とより高い収量をサポートします。  

私たちの惑星受容器の利点  

- 拡張サービスライフ：SICコーティング摩耗や裂傷を大幅に削減し、交換頻度が低くなり、運用コストが削減されます。  

- プロセスの安定性の改善：一貫した加熱と最小限の熱勾配を保証し、高品質のウェーハ生産につながります。  

- 互換性とカスタマイズ：特定のAIXTRON G5+プロセス要件を満たすための標準およびカスタマイズされたデザインで利用できます。  

黒鉛部品は、半導体プロセスにおいて不可欠で非常に重要な役割を果たします。グラファイト材料の品質は、完成品の品質に大きな影響を与えます。グラファイトバッチの一貫性と材料の均一性は、生産プロセスを通じて制御および保証できます。

1.小さなバッチ生産、炭化炉はわずか50立方メートルの小さな炉のみを使用しています

2。各材料は監視および追跡されます

3.温度差が非常に小さな範囲に保持されるように、炉スペースでのマルチポイント温度モニタリング

4.温度差が非常に小さな範囲に保持されるように、材料のマルチポイント温度監視

Semicorex Planetary Commenceptorは、Aixtron G5+反応器のプレミアムソリューションであり、優れた熱安定性、耐薬品性、および精密性能を提供します。最も要求の厳しい半導体製造プロセスのために設計され、より高いウェーハ収量を促進し、汚染リスクを最小限に抑え、機器の寿命を延ばします。比類のない結果を得るために、上層受容器でエピタキシーシステムをアップグレードします。