静電チャック E-チャック

Semicorex 静電チャック E-Chuck は静電引力の原理に基づいて動作し、特にエッチングやイオン注入に使用される機械的クランプや真空吸引を必要とせずに、信頼性が高く正確なウェーハ保持を実現します。

アンテーション、PVD、CVD などの半導体加工。カスタマイズ可能な寸法により幅広いアプリケーションに適応できるため、半導体製造プロセスの柔軟性と効率性を求める企業にとって理想的な選択肢となります。

J-Rタイプ静電チャックE-Chuckの基盤技術は、ウエハとチャック表面との間に静電力を発生させる機能です。この力は、チャック内に埋め込まれた電極に高電圧を印加することによって生成され、これによりウェーハとチャックの両方に電荷が誘導され、それによって強力な静電結合が形成されます。この機構はウェーハを所定の位置にしっかりと保持するだけでなく、ウェーハとチャックの間の物理的接触を最小限に抑え、敏感な半導体材料に損傷を与える可能性のある潜在的な汚染や機械的ストレスを軽減します。

Semicorex は、お客様の要件に応じて、200 mm から 300 mm、またはそれ以上のカスタマイズされた製品を生産できます。これらのカスタマイズ可能なオプションを提供することにより、J-R タイプ ESC は、プラズマ エッチング、化学蒸着 (CVD)、物理蒸着 (PVD)、イオン注入などのさまざまな半導体プロセスに最大限の柔軟性を提供します。

材質に関しては、静電チャック E-Chuck は、優れた誘電特性、機械的強度、熱安定性で知られるアルミナ (Al2O3) や窒化アルミニウム (AlN) などの高品質セラミック材料で作られています。これらのセラミックは、高温、腐食環境、プラズマへの曝露などの半導体製造の過酷な条件に耐えるのに必要な耐久性をチャックに提供します。さらに、セラミック表面はウェーハとの均一な接触を確保するために高度に平滑に研磨さ​​れ、静電気力が強化され、全体的なプロセスのパフォーマンスが向上します。

静電チャック E-Chuck は、半導体製造で一般的に遭遇する熱の問題にも対処できるように設計されています。温度管理は、ウェーハの温度が急速に変動する可能性があるエッチングや蒸着などのプロセス中に重要です。チャックに使用されているセラミック材料は優れた熱伝導性を備えており、効率的に熱を放散し、安定したウエハ温度を維持します。

静電チャック E-Chuck は、粒子汚染を最小限に抑えることに重点を置いて設計されています。これは、微細な粒子でさえ最終製品の欠陥につながる可能性がある半導体製造において重要です。チャックの滑らかなセラミック表面は粒子の付着の可能性を減らし、静電保持機構のおかげでウェーハとチャックの間の物理的接触が減少するため、汚染のリスクがさらに低くなります。 J-R タイプ ESC の一部のモデルには、粒子を寄せ付けず腐食に強い高度な表面コーティングまたは処理が組み込まれており、クリーンルーム環境でのチャックの寿命と信頼性が向上します。

要約すると、J-R タイプ静電チャック E-Chuck は、幅広い半導体製造プロセスにわたって優れたパフォーマンスを提供する、多用途で信頼性の高いウェーハ保持ソリューションです。カスタマイズ可能な設計、高度な静電保持技術、堅牢な材料特性により、最高水準の清浄度と精度を維持しながらウェーハの取り扱いを最適化したい企業にとって理想的な選択肢となっています。 J-R タイプ ESC は、プラズマ エッチング、蒸着、イオン注入のいずれに使用される場合でも、今日の半導体産業の厳しいニーズを満たすために必要な柔軟性、耐久性、効率を提供します。 J-R タイプ ESC は、クーロン モードとジョンセン ラーベック モードの両方で動作し、高温に対応し、粒子汚染に耐える機能を備えているため、より高い歩留まりとプロセス結果の向上を追求する上で重要なコンポーネントとして機能します。