窒化アルミニウム

Semicorex Aluminium Heatersは、高い熱伝導率、電気断熱性、および例外的な耐久性を必要とする用途向けに設計された最先端のセラミック加熱要素です。窒化アルミニウムセラミックから設計されたこれらのヒーターは、迅速かつ均一な加熱を提供し、半導体処理、医療診断、高度な分析機器などの高精度環境に最適です。

窒化アルミニウムヒーターは、半導体薄膜堆積装置の重要なコンポーネントです。それらはプロセスチャンバーに直接適用され、ウェーハと直接接触します。彼らはウェーハを運ぶだけでなく、ウェーハが 

安定した均一なプロセス温度。この機能は、ウェーハ表面の高精度反応と均一な薄膜の生成に不可欠です。

通常、窒化アルミニウムヒーターには、ウェーハ荷重表面を備えたセラミック基板と、背面にそれをサポートする円筒形のサポートボディが含まれています。加熱用の抵抗加熱回路に加えて、RF電極と静電チャック電極およびその他の導体もセラミック基板の内部または表面に提供されます。

薄膜堆積装置は通常、に基づいてセラミック材料を使用します窒化アルミニウム（ALN）それは高温環境を伴うからです。半導体製造で窒化アルミニウムヒーターが好まれる理由は、主に独自の物理的および化学的特性によるものです。窒化アルミニウムは熱伝導率が高いだけでなく、短時間で急速な加熱と冷却を達成できるだけでなく、断熱性と機械的強度も良好で、ヒーターの安定性と信頼性を確保します。さらに、窒化アルミニウムの熱膨張係数はシリコンの熱膨張係数と類似しており、ウェーハへの熱応力の影響を減らし、プロセスの収量を改善するのに役立ちます。

一般的に言えば、セラミックヒーター主に薄膜堆積装置で使用されます。高温プロセスを含むため、使用されるセラミック材料は主に窒化アルミニウムです。静電チャックは主にエッチング機器に使用され、使用されるセラミック材料は主に酸化アルミニウムです。半導体技術の開発により、セラミックヒーターと静電チャックの間には重複があります。たとえば、薄膜堆積装置で使用されるセラミックヒーターには、高温加熱と静電吸着の二重関数がある静電チャックが装備されています。エッチング機器に使用される静電チャックも高温プロセスを含み始め、セラミック材料は酸化アルミニウムから窒化アルミニウムに変更する必要があります。