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バレルリアクターでのシリコンエピタキシャル堆積

半導体製造アプリケーションで使用する高性能グラファイトサセプタが必要な場合、Semicorex バレルリアクター内シリコンエピタキシャル堆積が理想的な選択肢です。高純度の SiC コーティングと卓越した熱伝導率により、優れた保護特性と熱分布特性を実現し、最も困難な環境でも信頼性が高く一貫したパフォーマンスを実現するための有力な選択肢となっています。

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高度で耐久性のある SiC-Coating-Graphite-Substrate-for-Semiconductor を購入しますか?セミコレックスは間違いなくあなたの良い選択です。私たちは、中国で最も競争力のある SiC-Coating-Graphite-Substrate-for-Semiconductor メーカーおよびサプライヤーの 1 つとして知られています。バルク梱包も承っております。お住まいの地域の実際のニーズを満たすために、カスタマイズされたサービスが必要になる場合があります。ウェブページの連絡先情報からメッセージを残すことができます。私たちは、新旧の顧客が相談と交渉のために私たちの工場を訪問することを心から歓迎します。