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ICPエッチングプロセス用SiCプレート

Semicorex の ICP エッチングプロセス用 SiC プレートは、薄膜堆積やウェーハハンドリングにおける高温で過酷な化学処理要件に最適なソリューションです。当社の製品は優れた耐熱性と均一な熱均一性を誇り、一貫したエピ層の厚さと抵抗を保証します。当社の高純度 SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を備えており、新品のウェーハに最適なハンドリングを提供します。

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SiCコーティングされたICPエッチングキャリア

Semicorex SiC コーティングされた ICP エッチングキャリアは、中国で高い耐熱性と耐食性を備えたエピタキシー装置向けに特別に設計されました。当社の製品は価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカの市場の多くをカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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Semicorex のウェーハ処理用 PSS エッチングキャリアトレイは、要求の厳しいエピタキシー装置アプリケーション向けに特別に設計されています。当社の超高純度グラファイトキャリアは、MOCVD、エピタキシーサセプタ、パンケーキまたはサテライトプラットフォーム、エッチングなどのウェーハハンドリングプロセスなどの薄膜堆積フェーズに最適です。 PSSウエハ処理用エッチングキャリアトレイは、高い耐熱性、耐食性、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備えています。当社の製品は費用対効果が高く、価格面でも大きなメリットがあります。当社は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場に対応しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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PSS LED用エッチングキャリアトレイ

Semicorex では、エピタキシャル成長やウェーハ取り扱いプロセスに必要な過酷な環境向けに、LED 用 PSS エッチングキャリアトレイを設計しました。当社の超高純度グラファイトキャリアは、MOCVD、エピタキシーサセプタ、パンケーキまたはサテライトプラットフォーム、エッチングなどのウェーハハンドリングプロセスなどの薄膜堆積フェーズに最適です。 SiCコートキャリアは耐熱性、耐食性が高く、熱分布特性に優れ、熱伝導率も高いです。当社の LED 用 PSS エッチングキャリアトレイはコスト効率が高く、価格面でのメリットが非常に優れています。当社は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場に対応しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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PSS半導体用エッチングキャリアプレート

Semicorex PSS 半導体用エッチングキャリアプレートは、エピタキシャル成長やウェーハハンドリングプロセスに必要な高温で過酷な化学洗浄環境向けに特別に設計されています。当社の半導体用超高純度 PSS エッチングキャリアプレートは、MOCVD やエピタキシサセプタ、パンケーキ、またはサテライトプラットフォームなどの薄膜堆積段階でウェーハをサポートするように設計されています。当社のSiCコーティングキャリアは、高い耐熱性、耐腐食性、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備えています。当社はコスト効率の高いソリューションをお客様に提供しており、当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカの市場をカバーしています。 Semicorex は、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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