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CVD SiC フォーカスリング 2L10-506419-21用

高性能 CVD SiC 材料で作られた Semicorex 2L10-506419-21 用 CVD SiC フォーカスリングは、精密半導体エッチングプロセスで使用される TEL VIGUS RK4 装置用に特別に設計された重要なリング部品です。 Semicorex を選択すると、正確で均一なエッチング結果を達成するための理想的な CVD SiC ソリューションが得られることになります。

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SiC コーティングされた遊星サセプター

Semicorex SiC コーティングされた遊星サセプタは、高密度の炭化ケイ素コーティングで覆われた高精度グラファイト支持コンポーネントであり、高度な MOCVD 装置用に特別に設計されています。均一なガス流と熱分布を可能にし、最適なエピタキシャル環境の構築に貢献します。

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SiCセラミックウェーハボート

Semicorex SiC セラミックウェーハボートは、最先端の半導体製造中にウェーハを安全にサポートおよび輸送できるように設計された高性能炭化ケイ素ソリューションです。これらの優れた利点により、酸化、拡散、CVD プロセスなどの精密な高温半導体製造プロセスに適しています。

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SiC コーティングされたガス分流ディスク

Semicorex SiC コーティングされたガス分流ディスクは、半導体エピタキシャル装置に適用される不可欠なグラファイトコンポーネントであり、反応ガスの流れを調整し、反応チャンバー内の均一なガス分布を促進するように特別に設計されています。 Semicorex を選択し、高品質のウェーハエピタキシャル結果を得るために最適なガス分流ソリューションを選択してください。

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SiCウェハキャリア

Semicorex SiC ウェーハキャリアは、3D プリント技術により高純度の炭化ケイ素セラミックで作られているため、短時間で高貴な機械加工コンポーネントを実現できます。 Semicorex は、世界中のお客様に認定された高品質の製品を提供するとみなしています。*

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CVD SiC コーティングされた上部接地リング

Semicorex CVD SiC コーティングされた上部接地リングは、高度なプラズマエッチング装置用に特別に設計された重要なリング状コンポーネントです。セミコレックスは、業界をリードする半導体コンポーネントのサプライヤーとして、高品質、長寿命、超クリーンな CVD SiC コーティングの上部接地リングの提供に注力し、大切なお客様の業務効率と全体的な製品品質の向上を支援します。

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