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SiCディスクレシーバー

Semicorex は、エピタキシー、有機金属化学蒸着 (MOCVD)、および高速熱処理 (RTP) 装置の性能を向上させるように設計された SiC ディスクサセプターを発表します。細心の注意を払って設計された SiC ディスクサセプターは、高温および真空環境において優れた性能、耐久性、効率を保証する特性を備えています。**

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グラファイト熱場

Semicorex Graphite Thermal Field は、最先端の材料科学と結晶成長プロセスの深い理解を組み合わせ、半導体業界が新たなレベルの性能、効率、費用対効果を達成できる革新的なソリューションを提供します。**

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LPE SiC-Epi ハーフムーン

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon は、エピタキシーの世界において不可欠な資産であり、高温、反応性ガス、および厳しい純度要件によってもたらされる課題に対する堅牢なソリューションを提供します。**

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CVD TaC コーティングカバー

Semicorex CVD TaC コーティングカバーは、高温、反応性ガス、厳しい純度要件を特徴とするエピタキシーリアクター内の厳しい環境を実現する重要な技術となっており、安定した結晶成長を確保し、望ましくない反応を防ぐための堅牢な材料が必要です。**

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グラファイトシングルシリコンプルツール

Semicorex グラファイトシングルシリコンプルツールは、温度が急上昇し精度が最高に支配される結晶成長炉の燃えるるつぼの中で、縁の下の力持ちとして登場します。革新的な製造によって磨かれたその驚くべき特性により、完璧な単結晶シリコンを製造するために不可欠なものとなっています。**

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TaCコーティングガイドリング

Semicorex TaC コーティングガイドリングは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) 装置内の重要な部品として機能し、エピタキシャル成長プロセス中に前駆体ガスの正確かつ安定した供給を保証します。 TaC コーティングガイドリングは、MOCVD リアクターチャンバー内の極端な条件に耐えるのに理想的な一連の特性を備えています。**

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LPE SiC-Epi ハーフムーン

CVD TaC コーティング カバー

グラファイトシングルシリコンプルツール

TaCコーティングガイドリング

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