製品

Semicorex グラファイト硬質フェルトは、高温用途向けに設計された高性能素材であり、優れた圧縮強度と優れた断熱性を備えています。 Semicorex を信頼できるパートナーとして、より高い産業目標を達成しましょう。*

Semicorex MOCVD ウェハホルダーは、SiC エピタキシー成長に不可欠なコンポーネントであり、優れた熱管理、耐薬品性、寸法安定性を提供します。 Semicorex のウェーハホルダーを選択すると、MOCVD プロセスのパフォーマンスが向上し、製品の品質が向上し、半導体製造業務の効率が向上します。 *

Semicorex エピタキシー コンポーネントは、高度な半導体アプリケーション向けの高品質 SiC 基板の製造において重要な要素であり、LPE リアクター システムにとって信頼できる選択肢です。 Semicorex エピタキシー コンポーネントを選択することで、お客様は自信を持って投資し、競争の激しい半導体市場での生産能力を向上させることができます*。

Semicorex の PBN セラミック ディスクは、高温低圧で三塩化ホウ素 (BCl3) とアンモニア (NH3) を利用する複雑な化学気相成長 (CVD) プロセスを通じて合成されます。この合成方法により、卓越した純度と構造的完全性を備えた材料が得られ、半導体業界のさまざまな用途に不可欠なものとなっています。**

Semicorex ZrO2 るつぼは安定化ジルコニア セラミックから作られており、重量パーセントで 94.7% の二酸化ジルコニウム (ZrO2) と 5.2% の酸化イットリウム (Y2O3)、またはモルパーセントで 97% の ZrO2 と 3% の Y2O3 の標準組成を示します。この正確な配合により、ZrO2 るつぼには、特に高性能工業プロセスの要求に応える一連の有利な特性が与えられます。**

Semicorex Al2O3 切断ブレードは、フィルムや箔、医療用途、電子部品の複雑な組み立てなど、さまざまな業界にわたる切断プロセスの厳しい要求を満たすように細心の注意を払って設計されています。**