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誘導加熱バレルエピシステム

優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイトサセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレルエピシステム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。

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半導体エピタキシャルリアクタのバレル構造

Semicorex の半導体エピタキシャルリアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。

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SiC コーティングされたグラファイトバレルサセプター

半導体製造アプリケーションで使用する高性能グラファイトサセプタをお探しの場合、Semicorex SiC コーティンググラファイトバレルサセプタが理想的な選択肢です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、高温および腐食環境において信頼性が高く一貫したパフォーマンスを実現するための有力な選択肢となっています。

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SiC コーティング結晶成長サセプター

高い融点、耐酸化性、耐食性を備えた Semicorex SiC コーティング結晶成長サセプターは、単結晶成長用途での使用に最適です。炭化ケイ素コーティングにより優れた平坦性と熱分布特性が得られ、高温環境に最適です。

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液相エピタキシー用バレルサセプター

最も要求の厳しい高温および腐食環境でも確実かつ一貫して機能するグラファイトサセプターが必要な場合、液相エピタキシー用 Semicorex バレルサセプターが最適です。炭化ケイ素コーティングは優れた熱伝導性と熱分布を提供し、半導体製造用途で優れたパフォーマンスを保証します。

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炭化ケイ素コーティングされたグラファイトバレル

Semicorex 炭化ケイ素コーティングされたグラファイトバレルは、高い耐熱性と耐腐食性が必要な半導体製造用途に最適です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の高温環境での使用に最適です。

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