製品

View as

ICPプラズマエッチングトレイ

Semicorex の ICP プラズマエッチングトレイは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセス向けに特別に設計されています。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを提供し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

続きを読むお問い合わせを送信

ICPプラズマエッチング装置

Semicorex の ICP プラズマエッチングシステム用 SiC コーティングキャリアは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスにとって信頼性が高くコスト効率の高いソリューションです。当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を提供する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。

続きを読むお問い合わせを送信

誘導結合プラズマ (ICP)

Semicorex の誘導結合プラズマ (ICP) 用炭化ケイ素でコーティングされたサセプタは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセス用に特別に設計されています。当社のキャリアは、最大 1600°C の安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

続きを読むお問い合わせを送信

ICPエッチングウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングウェーハホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

続きを読むお問い合わせを送信

ICPエッチングキャリアプレート

Semicorex の ICP エッチングキャリアプレートは、要求の厳しいウェーハの取り扱いや薄膜堆積プロセスに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および層流のガス流パターンを提供します。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。

続きを読むお問い合わせを送信

ICPエッチングプロセス用ウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングプロセス用ウェーハホルダーは、要求の厳しいウェーハハンドリングや薄膜堆積プロセスに最適です。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および一貫した信頼性の高い結果をもたらす最適な層流ガスフローパターンを誇ります。

続きを読むお問い合わせを送信

<...58 59 60 61 62...67 >