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半導体製造における主要なセラミック成分

半導体製造における主要なセラミック成分

半導体機器はチャンバーとチャンバーで構成されており、ほとんどのセラミックはウェーハに近いチャンバーで使用されています。セラミック部品、コア機器の空洞で広く使用されている重要なコンポーネントは、アルミナセラミック、窒化アルミニウムセラミック、炭化シリコンセラミックなどの高度なセラミック材料を使用して、精密処理を通じて製造された半導体機器コンポーネントです。

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真空炉用のグラファイト製品

真空炉用のグラファイト製品

グラファイト製品は、等導体グラファイト、多孔質グラファイト、フェルトなどを含む、半導体製造プロセスにおける重要で不可欠なコンポーネントです。

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GAN市場の変化

GAN市場の変化

炭化シリコン（SIC）は現在、「価格戦争」で課題に直面していますが、窒化ガリウム（GAN）は次の技術戦場で重要なプレーヤーとして浮上しています。

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なぜQuartzをアニールする必要があるのか

なぜQuartzをアニールする必要があるのか

処理方法、使用、および外観によれば、Quartz Glassは透明と不透明の2つのカテゴリに分類されます。透明なカテゴリには、融合した透明な石英ガラス、融合したクォーツガラス、ガス反復透明なクォーツガラス、合成石英ガラスなどのタイプが含まれます。

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導電性コーティンググラファイトヒーター

導電性コーティンググラファイトヒーター

導電性コーティンググラファイトヒーターは、高温半導体処理およびその他の真空熱システム用に設計された新製品です。

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PBN材料のアプリケーション

PBN材料のアプリケーション

PBN、または窒化熱分解ホウ素は六角形系に属し、最大99.999％の純度を持つ高度な無機非金属材料です。

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