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業界ニュース

熱アニーリングとは

熱アニーリングとは

熱アニーリングとしても知られるアニーリング プロセスは、半導体製造における重要なステップです。

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半導体製造で超音波洗浄を使用する理由

半導体製造で超音波洗浄を使用する理由

ウェーハを洗浄する場合、ウェーハ表面からパーティクルを除去するために超音波洗浄とメガソニック洗浄が一般的に使用されます。

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n型4H-SiC結晶の電気抵抗率分布に関する研究

n型4H-SiC結晶の電気抵抗率分布に関する研究

4H-SiC は、第 3 世代の半導体材料として、広いバンドギャップ、高い熱伝導率、優れた化学的および熱的安定性で知られており、高出力および高周波の用途で非常に価値があります。

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結晶成長炉システムとは

結晶成長炉システムとは

単結晶育成炉は 6 つの主要なシステムで構成されており、それらが調和して動作することで、効率的かつ高品質な結晶成長を実現します。

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Infineon Unveils World’s First 300mm Power GaN Wafer

Infineon Unveils World’s First 300mm Power GaN Wafer

最近、インフィニオン テクノロジーズは、世界初の 300mm パワー窒化ガリウム (GaN) ウェーハ技術の開発に成功したと発表しました。

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単結晶シリコンの製造

単結晶シリコンの製造

単結晶シリコンの製造に使用される 3 つの主な方法は、チョクラルスキー (CZ) 法、カイロプロス法、およびフロート ゾーン (FZ) 法です。

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