ICPプラズマエッチングトレイ

当社の ICP プラズマ エッチング トレイは、CVD 法を使用して炭化ケイ素でコーティングされており、高温で過酷な化学洗浄を必要とするウェーハ取り扱いプロセスに最適なソリューションです。 Semicorex のキャリアは、均一な熱プロファイル、層流ガス流パターンを提供し、汚染や不純物の拡散を防止する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。
Semicorex では、高品質でコスト効率の高い製品をお客様に提供することに重点を置いています。当社の ICP プラズマ エッチング トレイは価格面での利点があり、多くのヨーロッパおよびアメリカの市場に輸出されています。当社は、一貫した品質の製品と優れた顧客サービスを提供し、お客様の長期的なパートナーとなることを目指しています。
ICP プラズマ エッチング トレイの詳細については、今すぐお問い合わせください。

ICPプラズマエッチングトレイのパラメータ

ICPプラズマエッチングトレイの特長

- 剥がれを避け、すべての表面を確実にコーティングしてください。

高温酸化耐性：1600℃までの高温でも安定

高純度: 高温塩素化条件下での CVD 化学蒸着によって製造されます。

耐食性：高硬度、緻密な表面、微細な粒子。

耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。

- 最適な層流ガス流パターンを実現

- 熱プロファイルの均一性を保証

- 汚染や不純物の拡散を防止します。