ホットゾーン用グラファイトヒーター

均一な温度分布:ホットゾーン用グラファイトヒーターは、細心の注意を払った材料加工と精密機械加工の組み合わせによって実現される、均一な加熱特性で知られています。この均一性により、加熱面全体にわたって一貫した温度プロファイルが保証され、不均一なウェハ処理、歩留まりの低下、デバイス性能の一貫性の低下につながる可能性のある熱勾配が最小限に抑えられます。

優れた耐食性:ホットゾーン用グラファイトヒーターは、高温半導体プロセスで一般的に遭遇するさまざまな腐食性ガスや化学薬品に対して優れた耐性を示します。この固有の不活性により、ヒーターの長期的な安定性と性能が確保され、汚染のリスクが最小限に抑えられ、動作寿命が延長されます。

優れた耐酸化性:従来のグラファイトとは異なり、ホットゾーン用グラファイト ヒーターは、高温でも優れた耐酸化性を示します。この特性は、ヒーターの完全性を維持し、処理チャンバー内での微粒子汚染の形成を防ぐために非常に重要です。

超高化学純度:ホットゾーン用グラファイトヒーターは超高純度レベルを達成するように処理されており、半導体処理環境に望ましくない汚染物質が導入されるリスクを最小限に抑えます。この並外れた純度は、繊細な半導体材料の完全性を維持し、製造されたデバイスの望ましい電気的および光学的特性を確保するために不可欠です。

高い機械的強度と安定性:ホットゾーン用グラファイトヒーターは、高温における優れた機械的強度と寸法安定性を備えており、熱サイクルや機械的応力を含む高温動作の過酷さに耐えることができる堅牢なヒーターコンポーネントの製造を可能にします。