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カスタマイズされた多孔質セラミックチャック

カスタマイズされた多孔質セラミックチャック

カスタマイズされた多孔質セラミック チャックは、半導体製造専用に設計された優れたワークピースのクランプおよび固定ソリューションです。 Semicorex を選択すると、信頼性の高い品質、カスタマイズ サービス、生産性の向上によるメリットが得られます。

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製品説明

カスタマイズされた多孔質セラミックチャックベースと多孔質セラミックプレートで構成されます。真空システムに接続し、ウェーハとセラミックの間の空気を排気することで低圧環境を作り出します。真空負圧下でウエハをチャック面に強固に吸着させ、安全かつ安定した固定・位置決めを実現します。


Semicorex は、高級でパーソナライズされたサービスを提供しながら、常に大切なお客様の基本的なニーズを優先します。当社は、最終的にカスタマイズされた多孔質セラミック チャックがさまざまな形状やサイズのワークピースにシームレスに適合することを保証する多様なオプションを提供し、それによって装置の稼働効率と生産の安定性を効果的に向上させます。

仕様:

サイズ
4インチ/6インチ/8インチ/12インチ
平面度
2μm/2μm/3μm/3μm以上
多孔質セラミック板の材質
アルミナと炭化ケイ素
多孔質セラミックの気孔径
5~50μm
多孔質セラミックの気孔率
35%-50%
帯電防止機能
オプション
基材
ステンレス鋼、アルミニウム合金、セラミックス(炭化ケイ素)


精密加工されたカスタマイズされた多孔質セラミックチャックは、ワークピース表面全体に均一な吸着力分布を提供し、不均一な力の適用によって引き起こされるワークピースの変形や加工誤差を効果的に防ぎます。さらに、カスタマイズされた多孔質セラミック チャックは、強力な耐化学腐食性と優れた高温耐性のおかげで、困難で複雑な生産環境においても安定した長期動作を維持します。


アプリケーションのシナリオ:

1. 半導体製造:ウェーハの薄化、ダイシング、研削、研磨などのウェーハ加工。化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) プロセス。イオン注入。

1. 半導体製造:ウェーハの薄化、ダイシング、研削、研磨などのウェーハ加工。化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) プロセス。イオン注入。

3. 精密加工:薄いもの、壊れやすいもの、高精度のワークをクランプして固定します。




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