Al2O3真空チャック

半導体製造におけるアプリケーション

セミコレックスAl2O3 真空チャックは、半導体製造の複数の段階にわたって使用される多用途ツールです。

薄化: ウェーハの薄化プロセス中、Al2O3 真空チャックは安定した均一なサポートを提供し、高精度の基板縮小を保証します。これは、チップの放熱を改善し、デバイスのパフォーマンスを向上させるために非常に重要です。

ダイシング: ウェーハを個々のチップに切断するダイシング段階では、Al2O3 真空チャックが確実で安定した吸着を実現し、損傷のリスクを最小限に抑え、きれいな切断を保証します。

洗浄: Al2O3 真空チャックの滑らかで均一な吸着面はウェーハの洗浄プロセスに適しており、ウェーハに損傷を与えることなく汚染物質を効果的に除去します。

輸送: ウェーハの取り扱いおよび輸送中に、Al2O3 真空チャックは信頼性の高い確実なサポートを提供し、損傷や汚染のリスクを軽減します。

セミコレックス真空チャックフロー

セミコレックスAl2O3 真空チャックの利点

1. 均一微多孔質セラミック技術

Al2O3 真空チャックは、均一なサイズのナノ粉末を使用する微多孔質セラミック技術を使用して構築されています。この技術により、細孔が均一に分布して相互接続され、高い気孔率と均一な緻密な構造が得られます。この均一性により真空チャックの性能が向上し、一貫した信頼性の高いウェーハサポートが提供されます。

2. 優れた材料特性

Al2O3 真空チャックに使用される超高純度 99.99% アルミナ (Al2O3) は、以下のような優れた特性を備えています。

熱特性: 高い耐熱性と優れた熱伝導性を備えた Al2O3 真空チャックは、半導体製造で一般的に遭遇する高温に耐えることができます。

機械的特性: アルミナの高い強度と硬度により、Al2O3 真空チャックは耐久性があり、磨耗に強く、長期にわたる性能が保証されます。

その他の特性: アルミナは高い電気絶縁性と耐食性も備えているため、Al2O3 真空チャックは幅広い製造環境に適しています。

3. 優れた平面度、平行度

Al2O3 真空チャックの主な利点の 1 つは、その高い平面度と平行度です。これらの特性は、正確かつ安定したウェーハのハンドリングを確保し、損傷のリスクを最小限に抑え、一貫した処理結果を保証するために非常に重要です。さらに、Al2O3 真空チャックの優れた通気性と均一な吸着力により、スムーズで信頼性の高い動作が保証されます。

4. カスタマイズオプション

セミコレックスでは、各半導体製造プロセスに固有の要件があることを理解しています。そのため、当社はお客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズされた真空チャックを提供しています。必要な平面度と製造コストに応じて、真空チャックの重量と性能が用途に合わせて最適化されるように、さまざまなベース材料を推奨します。これらの材料には、SUS430ステンレス鋼、アルミニウム合金6061、緻密アルミナセラミック（アイボリー色）、御影石、緻密炭化ケイ素セラミックが含まれます。

Al2O3真空チャック三次元測定機測定