SiC コーティングは、化学蒸着 (CVD) プロセスを通じてサセプタ上に薄い層を形成します。炭化ケイ素材料は、破壊電界強度が 10 倍、バンドギャップが 3 倍であるなど、シリコンに比べて多くの利点をもたらし、材料に高温耐性、耐薬品性、優れた耐摩耗性、熱伝導性をもたらします。
Semicorex はカスタマイズされたサービスを提供し、耐久性の高いコンポーネントによる革新、サイクル タイムの短縮、歩留まりの向上を支援します。
SiC コーティングにはいくつかのユニークな利点があります
高温耐性: CVD SiC コーティングされたサセプターは、重大な熱劣化を受けることなく、最大 1600°C の高温に耐えることができます。
耐薬品性: 炭化ケイ素コーティングは、酸、アルカリ、有機溶剤などの幅広い化学薬品に対して優れた耐性を示します。
耐摩耗性: SiC コーティングにより、材料は優れた耐摩耗性を備えているため、摩耗や損傷が激しい用途に適しています。
熱伝導率: CVD SiC コーティングは材料に高い熱伝導率を提供し、効率的な熱伝達が必要な高温用途での使用に適しています。
高強度と剛性: 炭化ケイ素でコーティングされたサセプタは、材料に高い強度と剛性を提供し、高い機械的強度を必要とする用途に適しています。
SiCコーティングは様々な用途に使用されています
LED製造: CVD SiCコーティングされたサセプタは、その高い熱伝導率と耐薬品性により、青色および緑色LED、UV LED、深UV LEDを含むさまざまなタイプのLEDの製造プロセスに使用されます。
モバイル通信: CVD SiC コーティングされたサセプタは、GaN-on-SiC エピタキシャル プロセスを完了するための HEMT の重要な部分です。
半導体処理: CVD SiC コーティングされたサセプタは、半導体業界でウェーハ処理やエピタキシャル成長などのさまざまな用途に使用されています。
SiC コーティングされたグラファイトコンポーネント
炭化ケイ素コーティング (SiC) グラファイトで作られており、コーティングは CVD 法によって特定グレードの高密度グラファイトに適用されているため、不活性雰囲気では 3000 °C 以上、真空では 2200 °C 以上の高温炉で動作できます。 。
材料の特殊な特性と低質量により、速い加熱速度、均一な温度分布、および優れた制御精度が可能になります。
セミコレックスSiCコーティングの材料データ
代表的な特性 |
単位 |
価値観 |
構造 |
|
FCC βフェーズ |
向き |
割合(%) |
111 が望ましい |
かさ密度 |
g/cm3 |
3.21 |
硬度 |
ビッカース硬さ |
2500 |
熱容量 |
J kg-1 K-1 |
640 |
熱膨張 100 ~ 600 °C (212 ~ 1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
ヤング率 |
Gpa (4pt曲げ、1300℃) |
430 |
粒度 |
μm |
2~10 |
昇華温度 |
℃ |
2700 |
感覚の強さ |
MPa(室温4点) |
415 |
熱伝導率 |
(W/mK) |
300 |
結論 CVD SiC コーティングされたサセプタは、サセプタと炭化ケイ素の特性を組み合わせた複合材料です。この材料は、高温耐性、耐薬品性、優れた耐摩耗性、高い熱伝導率、高い強度と剛性などのユニークな特性を備えています。これらの特性により、半導体処理、化学処理、熱処理、太陽電池製造、LED 製造などのさまざまな高温用途にとって魅力的な材料となっています。
優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイト サセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレル エピ システム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の半導体エピタキシャル リアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。
続きを読むお問い合わせを送信半導体製造アプリケーションで使用する高性能グラファイト サセプタをお探しの場合、Semicorex SiC コーティング グラファイト バレル サセプタが理想的な選択肢です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、高温および腐食環境において信頼性が高く一貫したパフォーマンスを実現するための有力な選択肢となっています。
続きを読むお問い合わせを送信高い融点、耐酸化性、耐食性を備えた Semicorex SiC コーティング結晶成長サセプターは、単結晶成長用途での使用に最適です。炭化ケイ素コーティングにより優れた平坦性と熱分布特性が得られ、高温環境に最適です。
続きを読むお問い合わせを送信最も要求の厳しい高温および腐食環境でも確実かつ一貫して機能するグラファイト サセプターが必要な場合、液相エピタキシー用 Semicorex バレル サセプターが最適です。炭化ケイ素コーティングは優れた熱伝導性と熱分布を提供し、半導体製造用途で優れたパフォーマンスを保証します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex 炭化ケイ素コーティングされたグラファイト バレルは、高い耐熱性と耐腐食性が必要な半導体製造用途に最適です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の高温環境での使用に最適です。
続きを読むお問い合わせを送信