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バレルリアクターでの CVD エピタキシャル堆積

Semicorex バレルリアクター内 CVD エピタキシャル成長は、ウェーハチップ上にエピキシャル層を成長させるための耐久性と信頼性の高い製品です。高温酸化耐性と高純度により、半導体産業での使用に適しています。均一な熱プロファイル、層流ガス流パターン、および汚染防止により、高品質のエピキシャル層成長には理想的な選択肢となります。

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