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CVD SiCフィン

Semicorex CVD SiC Fin は、化学気相成長法によって製造された厚く高密度の炭化ケイ素固体コンポーネントであり、卓越した純度、耐久性、耐食性を必要とするプラズマ対向および超高温半導体用途向けに設計されています。 Semicorex は、高度な CVD 炭化ケイ素コンポーネントを世界中の半導体装置メーカーに供給し、最も要求の厳しいプロセス環境向けにカスタマイズされたソリューション、精密エンジニアリング、信頼できるグローバル配信を提供します。

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CVD SiC フォーカスリング 2L10-506419-21用

高性能 CVD SiC 材料で作られた Semicorex 2L10-506419-21 用 CVD SiC フォーカスリングは、精密半導体エッチングプロセスで使用される TEL VIGUS RK4 装置用に特別に設計された重要なリング部品です。 Semicorex を選択すると、正確で均一なエッチング結果を達成するための理想的な CVD SiC ソリューションが得られることになります。

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CVD SiC コーティングされた上部接地リング

Semicorex CVD SiC コーティングされた上部接地リングは、高度なプラズマエッチング装置用に特別に設計された重要なリング状コンポーネントです。セミコレックスは、業界をリードする半導体コンポーネントのサプライヤーとして、高品質、長寿命、超クリーンな CVD SiC コーティングの上部接地リングの提供に注力し、大切なお客様の業務効率と全体的な製品品質の向上を支援します。

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ソリッドCVD SiCリング

Semicorex 固体 CVD SiC リングは、主に先進的な半導体産業のプラズマエッチング装置の反応チャンバーで使用される高性能のリング状コンポーネントです。 Semicorex ソリッド CVD SiC リングは、厳格な材料選択と品質管理を受けており、比類のない材料純度、卓越したプラズマ耐食性、および一貫した動作性能を提供します。

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CVD SiC コーティング炉管

Semicorex CVD SiC コーティング炉管は、半導体ウェーハの酸化、拡散、アニーリングなどの高温半導体処理用に特別に製造されたハイエンドの管状コンポーネントです。 Semicorex は、高度な加工技術と成熟した製造経験を活用して、市場をリードする品質で精密機械加工された CVD SiC コーティング炉管を大切なお客様に提供することに尽力しています。

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CVD SiCシャワーヘッド

Semicorex CVD SiC シャワーヘッドは、高度な半導体製造における CCP および ICP エッチングシステム用に設計された高純度の精密設計コンポーネントです。 Semicorex を選択するということは、最も要求の厳しいプラズマプロセスに対して、優れた材料純度、加工精度、耐久性を備えた信頼性の高いソリューションを獲得することを意味します。

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