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SIC 多孔質セラミック剥離チャック

Semicorex SiC 多孔質セラミック剥離チャックは、高度な半導体製造における薄型化された極薄ウェーハの吸着と固定用に特別に設計された重要なコンポーネントです。 Semicorex は、市場をリードする品質を備えた精密機械加工された SiC 多孔質セラミックチャックを著名なお客様に提供することに尽力しています。

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SiC多孔質セラミック真空チャック

セミコレックスSiC多孔質セラミック真空チャックは、多孔質炭化ケイ素セラミック材料の特殊構造を利用してワークの真空吸着を実現する、高度に特殊化されたセラミック治具です。 Semicorex は、最先端の生産技術と成熟した製造経験を活用して、市場をリードする高品質の SiC 多孔質セラミック真空チャックを大切な顧客に提供することに取り組んでいます。

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SiCセラミック真空チャック

Semicorex SiCセラミック真空チャックは、炭化ケイ素セラミックから製造された精密真空吸着装置で、加工や検査中に半導体ウエハを特定の位置に正確かつ安定して位置決めできます。 Semicorex SiC セラミック真空チャックを使用すると、半導体製造の歩留まりが向上し、半導体デバイスの性能が向上し、全体的な製造コストが削減されます。

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RTA SiC ウェーハキャリア

Semicorex RTA SiC ウェーハキャリアは、半導体製造における急速熱アニールプロセス用に特別に設計された、重要なウェーハ搬送ツールです。 Semicorex RTA SiC ウェハキャリアは、急速熱アニールプロセスに最適なソリューションであり、半導体製造の歩留まりを向上させ、半導体デバイスの性能を向上させるのに役立ちます。

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SiCコーティングされたグラファイトプレート

Semicorex SiC コーティンググラファイトプレートは、SiC および GaN エピタキシーの厳しい要求に合わせて特別に設計された高純度キャリアであり、静水圧グラファイト基板上の高密度 CVD 炭化ケイ素コーティングを利用して、高歩留りウェーハ処理に安定した化学的に不活性な熱バリアを提供します。 Semicorex は世界中の顧客に適格な製品とサービスを提供します。*

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Semicorex SiC コーティングされたグラファイトから作られた SiC エピウェーハサセプタは、高温エピタキシャル成長プロセスにおいて優れた熱均一性と化学的安定性を提供するように設計されています。 Semicorex は、最高品質の製品と最高のサービスを世界中のお客様にお届けすることに尽力しています。強力な技術的専門知識と信頼できる製造能力により、当社はグローバルパートナーが安定したパフォーマンスと長期的な価値を達成できるよう支援します。*

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SiC多孔質セラミック真空チャック

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SiCエピウェーハサセプタ