Semicorex CVD SiC Fin は、化学気相成長法によって製造された厚く高密度の炭化ケイ素固体コンポーネントであり、卓越した純度、耐久性、耐食性を必要とするプラズマ対向および超高温半導体用途向けに設計されています。 Semicorex は、高度な CVD 炭化ケイ素コンポーネントを世界中の半導体装置メーカーに供給し、最も要求の厳しいプロセス環境向けにカスタマイズされたソリューション、精密エンジニアリング、信頼できるグローバル配信を提供します。
Semicorex SiC ガス分配プレートは、高温半導体エピタキシー システムにおいて均一なガス分配、優れた耐食性、汚染制御を提供するように設計された、精密設計の CVD SiC コーティングされたグラファイト シャワーヘッドです。 Semicorex は、高度な SiC コーティングされたグラファイト コンポーネントを世界中の半導体メーカーに供給し、8 インチ、12 インチ、および次世代のウェーハ処理プラットフォーム向けにカスタマイズされた設計、超高純度の材料、信頼性の高いグローバル配信を提供しています。