惑星円盤

Planetary Disk は、有機金属化学気相成長 (MOCVD) 炉内での分子線エピタキシー (MBE) プロセス用に設計された革新的なウェーハ キャリアおよびサセプタです。高品質の素材で作られた Planetary Disk は、半導体製造を新たな高みに引き上げるように設計されています。

Planetary Disk は、CVD SiC コーティングされたグラファイトから細心の注意を払って作られており、優れた熱安定性、高純度、極端な温度に対する耐性を保証します。この高度な材料構成により、要求の厳しい MOCVD 環境において優れたパフォーマンスと寿命が保証されます。

グラファイト基板上の CVD SiC コーティングは熱伝導率を高め、MOCVD プロセス中の効率的な熱伝達を促進します。この機能は、ウェーハ全体で一貫した温度プロファイルを保証するだけでなく、熱応力の低減と全体的な歩留まりの向上にも貢献します。

Planetary Disk はカスタマイズされており、幅広い半導体ウェーハ サイズと互換性があるため、さまざまな生産要件に対応する多用途のソリューションとなります。 MOCVD 炉の厳しい要求に耐えるように設計された Planetary Disk は、優れた耐久性と信頼性を示します。その堅牢な構造により長期にわたるパフォーマンスが保証され、ウェーハキャリアとサセプタに関連するダウンタイムとメンテナンスコストが削減されます。