PBNヒーター

セミコレックス熱分解窒化ホウ素PBNヒーターは、超クリーン、化学的に安定した、熱効率の良い材料が不可欠な要求の多い用途向けに設計された高純度で高性能加熱コンポーネントです。化学蒸気堆積（CVD）プロセスを通じて製造されたPBNは、例外的な熱伝導率、高温耐性、および優れた化学的不活性性を示し、半導体処理、結晶成長、および真空アプリケーションに理想的な選択肢となります。

PBNヒーターは、高度に絶縁されたPBNを基質として使用し、低圧熱分解化学蒸気堆積（CVD）を使用して、低圧（10torr未満）および高温で導電性PGをコーティングするヒーターです。この複合ヒーターの主な成分は、窒化熱分解ホウ素（PBN）と熱分解グラファイト（PG）です。その優れた腐食抵抗と高温抵抗により、主に半導体基質加熱（MBE、MOCVD、スパッタリングコーティングなど）に使用されます。超伝導体基板加熱;サンプル分析中のサンプル加熱。電子顕微鏡サンプル加熱;金属加熱;金属蒸発加熱源など

PBNは腐食性ガスに対して不活性です。純度が高い（99.99％を超える）;ほとんどの溶融金属とは濡れたり反応したりしません（焦げ付き防止のパンの特性があり、金属は100％使用できます）。高温抵抗が良好です（最大動作温度は2000年です）;良好な密度;優れた熱衝撃耐性およびその他の優れた特性により、PBN-PG複合ヒーターを準備するのに理想的な材料になります。 PGは、PBNヒーターで1600℃（不活性雰囲気と真空下）まで急速に加熱できます。同時に、PBNの良好な熱伝導率と相まって、加熱面は良好な熱の均一性を持っています。関連産業の急速な発展に伴い、PBN-PG複合ヒーターの需要も急速に増加しています。

PBNヒーターは、特定の設計および統合要件を満たすために、さまざまな形状と構成で製造できます。典型的な設計には、平面ヒーター、管状ヒーター、埋め込みまたは表面に取り付けられた加熱要素を備えたカスタムジオメトリが含まれます。加熱要素は通常、熱分解グラファイト（PG）で作られ、PBNでカプセル化されており、完全に密閉された電気的に断熱的で、熱効率の良い構造を提供します。