ALNヒーターとは何ですか

窒化アルミニウム（ALN）セラミックヒーター半導体の場合は、半導体材料を加熱するために使用されるデバイスです。主に窒化アルミニウムのセラミック材料で作られており、優れた熱伝導率と高温抵抗性を持ち、高温で安定して動作できます。 ALNヒーターは通常、抵抗線を加熱要素として使用します。抵抗ワイヤをエネルギーすることにより、熱がヒーターの表面に伝達され、半導体材料を加熱します。半導体用のALNヒーターは、半導体生産プロセスにおいて重要な役割を果たし、結晶成長、アニーリング、ベーキングなどのプロセスで使用できます。半導体のグローバルALNヒーター市場は、2022年に535.05百万米ドルに達し、前年比で7.13％増加しました。 2029年から2023年から2029年までの複合成長率（CAGR）が6.72％で、市場規模は8億4,821万米ドルに達すると予想されます。

処理における技術的な問題ALNヒーター

1. ALNヒーターの処理中は、材料の内部応力の変化のために壊れて崩壊するのは簡単で、完成品の適格な速度に影響します。窒化アルミニウムのセラミック材料の生産は容易ではなく、ALNヒーターの低い降伏率も、窒化アルミニウムセラミック加熱板の高価格の重要な理由の1つです。

2。窒化アルミニウムセラミック材料自体の問題。なぜなら、窒化アルミニウムセラミック材料生産業界では、材料自体の構造は、異なる温度と環境条件下でそれに応じて変化するからです。窒化アルミニウムのセラミック材料自体の生産は、比較的困難な作業です。材料の品質が低いことは、ALNヒーターの適格率が低いために重要な理由でもあります。

熱伝導率に影響する要因

窒化アルミニウムセラミックの熱伝導率に影響を与える主な要因は、格子密度、酸素含有量、粉末純度、微細構造などであり、窒化アルミニウムセラミックの熱伝導率に影響します。

格子の密度

窒化アルミニウムのセラミック材料の熱伝導率によれば、低密度サンプルに多数の細孔が存在することは、フォノンの散乱に影響を与え、平均自由経路を減らし、したがって窒化アルミニウムセラミックの熱伝導率を低下させます。同時に、低密度サンプルの機械的特性は、関連するアプリケーション要件を満たしていない場合があります。したがって、高密度は、窒化アルミニウムセラミックが高い熱伝導率を持つための前提条件です。

酸素含有量と不純物

窒化アルミニウムのセラミックの場合、酸素に対する強い親和性により、酸素不純物は、さまざまな欠陥に直接関連し、窒化アルミニウムの熱伝導率への影響の主な影響源です。フォノンディフェクトの散乱では、主な役割は、不純物酸素と酸化アルミニウムの存在によって果たされます。窒化アルミニウムは加水分解して酸化するのが簡単であるため、酸化アルミニウム膜の層が表面に形成され、酸化アルミニウムが窒化アルミニウム格子に溶けてアルミニウム空室を生成します。

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