半導体用MOCVDプラネットサセプタ

Semicorex は半導体業界で信頼できる名前であり、半導体用の高品質 MOCVD プラネットサセプタを提供しています。当社の製品は、優れた性能、安定性、耐久性を実現できるキャリアを求める半導体メーカーの特定のニーズを満たすように設計されています。当社の製品の詳細と、お客様の半導体製造のニーズを当社がどのようにサポートできるかについては、今すぐお問い合わせください。

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製品説明

当社の半導体用 MOCVD プラネットサセプタは高温酸化耐性を備えており、最大 1600°C の高温でも安定性を保証します。また、高温塩素化条件下での CVD 化学気相成長によって製造された高純度であり、製品の均一性と一貫性、均一な熱プロファイルと層流ガス流パターンを保証します。
半導体用 MOCVD プラネットサセプターの詳細については、今すぐお問い合わせください。

半導体用MOCVDプラネットサセプタのパラメータ

CVD-SICコーティングの主な仕様
SiC-CVDの特性
結晶構造	FCC βフェーズ
密度	g/cm3	3.21
硬度	ビッカース硬さ	2500
粒度	μm	2~10
化学純度	%	99.99995
熱容量	J kg-1 K-1	640
昇華温度	℃	2700
感覚の強さ	MPa(室温4点)	415
ヤング率	Gpa (4pt曲げ、1300℃)	430
熱膨張 (C.T.E)	10-6K-1	4.5
熱伝導率	(W/mK)	300

MOCVD用SiCコートグラファイトサセプタの特長

- 剥がれを避け、すべての表面を確実にコーティングしてください。
高温酸化耐性：1600℃までの高温でも安定
高純度: 高温塩素化条件下での CVD 化学蒸着によって製造されます。
耐食性：高硬度、緻密な表面、微細な粒子。
耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。
- 最適な層流ガス流パターンを実現
- 熱プロファイルの均一性を保証
- 汚染や不純物の拡散を防止します。