グラファイト熱場

Semicorex は、最先端の高純度グラファイト熱場で結晶成長アプリケーションの課題に対処します。細心の注意を払って選択された高純度等方性グラファイトから作られたグラファイト サーマル フィールドは、単結晶シリコン成長プロセスの性能、信頼性、および費用対効果を大幅に向上させる重要な特性を提供します。

均一性の再定義:Semicorex Graphite Thermal Field は、加熱構造の優れた均一性を示し、成長ゾーン全体にわたって均一な温度分布を保証します。この均一性により、成長中の結晶内の熱応力が最小限に抑えられ、欠陥密度が減少し、結晶品質が向上し、使用可能なウェーハの歩留まりが向上します。

電力効率:グラファイト熱場の優れた導電性により、成長炉内の効率的な熱伝達と正確な温度制御が可能になります。言い換えれば、これは加熱と冷却のサイクルが速くなり、エネルギー消費が削減され、最終的には製造される結晶あたりのコストが削減されることを意味します。

揺るぎない抵抗: グラファイト熱場は、単結晶シリコンの成長に特有の過酷な条件に耐えるように設計されています。その固有の耐食性により長期安定性が保証され、劣化したコンポーネントによる成長中の結晶の汚染が防止されます。さらに、グラファイト熱フィールドの非酸化性により、不要な酸化物の形成が排除され、成長環境の純度が維持され、一貫した結晶品質が保証されます。

核となる純粋さ:Semicorex は、最高レベルの半導体性能の達成は、優れた材料純度から始まることを理解しています。グラファイト サーマル フィールドは、結晶成長に悪影響を与える可能性のある不純物を最小限に抑えるために細心の注意を払って処理された超高純度等方性グラファイトから作られています。この純度へのこだわりにより、望ましい電気特性を備えた高品質のシリコン結晶の生産が保証されます。

長持ちする構造:グラファイト熱フィールドの堅牢な機械的強度により、結晶成長プロセスに固有の厳しい熱サイクルや機械的ストレスに耐える能力が保証されます。この耐久性は、コンポーネントの寿命の延長、メンテナンスの必要性の軽減、そして最終的には総所有コストの削減につながります。

単結晶引き上げ炉の熱場システム

Semicorex の高純度等方性グラファイト熱場は、単結晶シリコン メーカーに魅力的な価値提案を提供します。

エネルギー効率:最適化された熱設計と高い電気伝導率により、エネルギー消費量の削減と運用コストの削減に貢献します。

高価値製品:優れた材料純度と均一な加熱プロファイルにより、高品質の結晶の成長が可能になり、収率が最大化され、最終製品の価値が高まります。

低メンテナンス:堅牢な素材と細心の注意を払ったエンジニアリングにより磨耗が最小限に抑えられ、メンテナンスの必要性が軽減され、コンポーネントの寿命が延長されます。