グラファイトパーツ

Semicorex の等方性グラファイト部品は、さまざまな高精度産業での用途で知られています。これらは、結晶成長などのプロセスに不可欠な黒鉛るつぼの製造で特に高く評価されています。さらに、Semicorex グラファイト部品は、炭化タンタル (TaC) コーティングが施された高純度グラファイト部品の製造にも利用されています。これらのコーティングは、厳しい環境における部品の耐久性と性能を向上させる上で極めて重要です。

Semicorex 等方性グラファイト部品の最も重要な特性の 1 つは、その熱膨張係数であり、これは TaC 材料の熱膨張係数にほぼ一致します。この適合性は、グラファイト部品に適用される炭化タンタルコーティングの完全性と品質を維持するために非常に重要です。グラファイト部品と TaC コーティングの熱膨張率が同等であるため、温度変動時に発生する可能性のある応力が最小限に抑えられ、コーティングされた製品の全体的な品質と寿命が向上します。

Semicorex が使用する特許取得済みの静水圧プレス技術により、製造されるグラファイト部品が非常に高品質であることが保証されます。この技術では、製造プロセス中に全方向から均一に圧力を加え、最終製品に等方性の特性をもたらします。その結果、Semicorex等方性グラファイトの異方性値は、他のよく知られたグラファイト材料の異方性値よりも大幅に低くなります。異方性が低いと機械的特性と熱的特性がより均一になり、これは半導体製造などの精密用途で特に有利です。

エピタキシャルプロセスには、単結晶基板上に単結晶膜を堆積することが含まれます。このプロセスは、使用される材料の品質に非常に敏感です。 Semicorex のアイソスタティック グラファイト部品は、優れた均一性と熱安定性を備えており、半導体エピタキシャル プロセスの品質を向上させる上で重要な役割を果たします。これらのグラファイト部品の性能向上は、半導体製造における歩留まりの向上と品質管理の向上に役立ちます。

Semicorex 等方性グラファイト部品は、多くの高精度産業において重要なコンポーネントです。 TaC 材料と互換性のある熱膨張係数、特許取得済みの静水圧プレス技術による優れた品質、世界クラスの耐曲げ性能、カスタマイズ可能な黒鉛化などのユニークな特性により、半導体製造から再生可能エネルギーに至るまでの用途に不可欠なものとなっています。 Semicorex による継続的な研究開発の取り組みにより、同社のグラファイト部品は高度な技術アプリケーションの要求を満たし、それを超え続けることが保証され、複数の業界にわたる革新と効率をサポートします。