炭素断熱が感じられました

Semicorex炭素断熱フェルトは、半導体産業の結晶成長プロセスで使用するために特異的に設計された高性能熱断熱材です。高純度の炭素またはグラファイト繊維から製造されたこの炭素断熱材は、シリコン（SI）、炭化シリコン（SIC）、その他の複合半導体など、単一結晶の成長に使用される高温炉環境の厳しい熱管理と純度要件を満たすように最適化されています。

単結晶シリコンの成長プロセスは、熱場で完全に実行されます。優れた熱フィールドは、結晶の品質を改善するのに役立ち、結晶化効率が高くなっています。熱場の設計は、動的熱場の温度勾配の変化と炉室のガスの流れを大きく決定します。熱場で使用される材料の違いは、熱場のサービス寿命を直接決定します。

CZ単結晶シリコン炉で、炭素繊維複合材料時々使用されます。現在、彼らはボルト、ナット、るつぼ、荷重プレート、その他のコンポーネントの製造に使用され始めています。炭素断熱材は、高い特異的強度、高い特異的弾性率、低熱膨張係数、良好な導電率、高骨折靭性、低比重、熱衝撃耐性、耐性耐性、高温抵抗、その他の優れた特性を備えた炭素繊維強化炭素ベースの複合材料です。現在、新しいタイプの高温耐性構造材料として、航空宇宙、レース、生体材料、その他の分野で広く使用されています。

ポリアクリロニトリルベースの炭素断熱材のフェルトには、灰含有量が大きくなっています。高温処理後、単一の繊維は脆くなります。操作中、炉環境を汚染するためにほこりを生成するのは簡単です。同時に、繊維は人体の毛穴や呼吸器に簡単に入ることができます。これは、人間の健康に有害です。ビスコースベースのカーボンフェルトは、優れた熱断熱性能を持っています。熱処理後は比較的柔らかく、ほこりを生成するのは簡単ではありません。ただし、ビスコースベースの生繊維の断面は不規則であり、繊維表面に多くの溝があります。 CZシリコン炉内の酸化大気が存在する場合、C02などのガスを生成するのは簡単で、単結晶シリコン材料の酸素と炭素元素の沈殿を引き起こします。現在、半導体単結晶産業で最も広く使用されているのは、アスファルトベースのカーボンフェルトであり、これはビスコースベースのカーボンフェルトよりも熱断熱性のパフォーマンスが悪くなっていますが、アスファルトベースのカーボンフェルトは純度が高く、粉塵排出量が低くなっています。

単結晶シリコンの成長品質は、熱野環境の影響を直接受けます。炭素繊維熱断熱材は、この環境で重要な役割を果たします。炭素繊維熱絶縁柔らかいフェルトコストの優位性、優れた熱断熱効果、柔軟な設計、カスタマイズ可能な形状により、太陽光系半導体業界ではまだ大きな利点があります。さらに、炭素繊維の硬質断熱材は、その特定の強度とより高い運用性のために、熱野材料市場で開発の余地が大きくなります。