> ニュース > 業界ニュース

低温プラズマエッチングとは何ですか?

2024-11-08

プラズマは物質の 4 番目の状態であり、産業用途と自然現象の両方で重要な役割を果たします。たとえば、プラズマは雷の中に存在し、中心温度が 13,500°C という驚異的な温度に達する太陽​​の表面で大量に生成されます。この高温プラズマは、ほとんどの工業生産プロセスには適していません。


一方、低温プラズマは、熱ではなくエネルギーを利用して化学反応を促進する人工的に作成されたプラズマです。その温度範囲は通常室温から数百℃であり、さまざまな用途に非常に効果的です。



人工プラズマを生成する手順:


1. チャンバー内の圧力を下げる: まず、真空ポンプを使用してキャビティ内の圧力を下げます。低圧力を達成することは、プラズマを安定させ、ガスのイオン化を促進するために不可欠です。


2. プロセスガスの導入: 特定のプロセスガスをキャビティに注入します。これらのガスは、プラズマ内の主な粒子源として機能します。


3. プラズマを励起する: 電力を加えてガスをイオン化し、効果的にプラズマを形成します。


4. プラズマを停止して大気圧に戻す: 目的の反応が完了したら、プラズマをオフにしてチャンバーを大気圧に戻します。


半導体製造における低温プラズマの応用:


低温プラズマは半導体製造に不可欠であり、ドライエッチング、物理蒸着 (PVD)、化学蒸着 (CVD)、原子層蒸着 (ALD)、イオン注入、アッシング、終点検出などの重要な機能を果たします。その多用途性と効率性により、業界の基本ツールとなっています。



セミコレックスが提供するものプラズマエッチング用の高品質ソリューション。ご質問がある場合、または詳細が必要な場合は、お気軽にお問い合わせください。


連絡先電話番号 +86-13567891907

電子メール: sales@semicorex.com


X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept