低温プラズマエッチングとは何ですか?

プラズマは物質の 4 番目の状態であり、産業用途と自然現象の両方で重要な役割を果たします。たとえば、プラズマは雷の中に存在し、中心温度が 13,500°C という驚異的な温度に達する太陽​​の表面で大量に生成されます。この高温プラズマは、ほとんどの工業生産プロセスには適していません。

一方、低温プラズマは、熱ではなくエネルギーを利用して化学反応を促進する人工的に作成されたプラズマです。その温度範囲は通常室温から数百℃であり、さまざまな用途に非常に効果的です。

人工プラズマを生成する手順:

1. チャンバー内の圧力を下げる: まず、真空ポンプを使用してキャビティ内の圧力を下げます。低圧力を達成することは、プラズマを安定させ、ガスのイオン化を促進するために不可欠です。

2. プロセスガスの導入: 特定のプロセスガスをキャビティに注入します。これらのガスは、プラズマ内の主な粒子源として機能します。

3. プラズマを励起する: 電力を加えてガスをイオン化し、効果的にプラズマを形成します。

4. プラズマを停止して大気圧に戻す: 目的の反応が完了したら、プラズマをオフにしてチャンバーを大気圧に戻します。

半導体製造における低温プラズマの応用:

低温プラズマは半導体製造に不可欠であり、ドライエッチング、物理蒸着 (PVD)、化学蒸着 (CVD)、原子層蒸着 (ALD)、イオン注入、アッシング、終点検出などの重要な機能を果たします。その多用途性と効率性により、業界の基本ツールとなっています。

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