SiC コーティングされたグラファイトサセプターを選択する理由は何ですか?

グラファイトサセプターMOCVD装置の必須部品の一つで、ウエハ基板のキャリアとヒーターです。その熱安定性と熱均一性の特性は、層材料の均一性と純度を直接決定するウェーハエピタキシャル成長の品質に決定的な役割を果たし、その結果、その品質はエピタキシャルの準備に直接影響します。一方、使用回数の増加や作業条件の変化に伴い、非常に紛失しやすく、消耗品に属します。グラファイトの優れた熱伝導率と安定性は、次のような利点をもたらします。MOCVD装置のベースコンポーネント。ただし、純粋なグラファイトだけを使用すると、いくつかの問題に直面します。製造プロセスでは腐食性ガスや金属有機残留物が存在し、グラファイトベースが腐食して粉末が脱落し、製品の耐用年数が大幅に短くなります。グラファイトサセプター、落下したグラファイト粉末もチップの汚染の原因となるため、ベースの準備プロセスでもこれらの問題をベースの準備中に解決する必要があります。コーティング技術は、表面の粉体を固定し、熱伝導率を高め、熱分布を均一にすることができ、この問題を解決する主要な技術となります。この問題を解決するのが主な技術です。アプリケーション環境と要件に応じて、グラファイトサセプター、表面コーティングは次の特性を備えている必要があります。

高密度と完全なラッピング: グラファイトベース全体は高温で腐食性の作業環境にあり、表面は完全にラッピングする必要があり、コーティングは良好な保護の役割を果たすために十分な密度を持たなければなりません。

良好な表面平坦性：単結晶成長に使用されるグラファイト基材は非常に高い表面平坦性を必要とするため、コーティングを調製した後も基材の元の平坦性を維持する必要があります。つまり、コーティング表面は均一でなければなりません。

優れた結合強度: グラファイトベースとコーティング材料の間の熱膨張係数の差を小さくすることで、それらの間の結合強度を効果的に向上させることができ、高温および低温の熱サイクル後にコーティングが割れにくくなります。

高い熱伝導性: 高品質のチップ成長にはグラファイトベースからの高速かつ均一な熱が必要であるため、コーティング材料は高い熱伝導性を備えている必要があります。

高融点、高温酸化および耐食性: コーティングは、高温および腐食性の作業環境でも安定して機能する必要があります。