MOCVDが鍵となる装置

MOCVD装置は半導体産業の生産プロセスにおける重要な装置ですが、半導体産業チェーンにおける設備投資（3つのコアプロセスと装置：リソグラフィー、エッチング、薄膜堆積）、LED生産ライン投資、MOCVDの大きな部分を占めています。投資額は最大 50% まで可能です。 CVD装置では、ガスの流れ方向（水平、垂直）、温度、圧力、固定などのさまざまな要素の影響を受けるため、基板を金属の上に直接置いたり、単に台の上に置いたりしてエピタキシャル成長させることはできません。 、汚染物質を排出します。したがって、ベースが使用され、基板がディスク上に配置され、CVD 技術を使用して基板上にエピタキシャル堆積が実行されます。このベースはSiCコーティングされたグラファイトですサセプター(これは、キャリア)、その構造を次の図に示します。