2025-07-04
The 導電性コーティンググラファイトヒーター高温半導体処理およびその他の真空熱システム用に設計された新製品です。高純度グラファイトの良好な熱安定性と、炭化シリコン(SIC)コーティングの優れた表面特性を採用しています。導電性コーティングされたグラファイトヒーターは、窒素ドープのSIC層によってさらに区別され、表面伝導率が大幅に改善されているため、優れた電気性能で制御され、さらには加熱する必要があるアプリケーションに特に適しています。
ヒーターは、コア構造導体および熱導体として機能する高強度グラファイト基板で構成されています。グラファイトが選択され、特に高レベルの熱伝導率、低熱膨張係数、および熱ショックに対する回復力が与えられました。これらの特性により、グラファイトは、急速な加熱と冷却サイクルがある可能性のある高温プロセスアプリケーションの適切な基本材料になります。ただし、手付かずのグラファイト自体は、特定の大気で化学的に反応性があり、特に半導体クリーンルーム環境では、拡張された使用中に表面の損傷または分解、粒子排出、または持ち運びを経験する可能性があります。
これらの制限を克服するために、グラファイト部分は厚くて高度なSIC層でコーティングされています。 SICコーティングは複数の機能を提供します。酸化と化学腐食に対する保護レベルを提供し、非常に硬い耐摩耗性の表面を提供し、真空とクリーンルームの基準との互換性を保証します。 SICは、極端な硬度、高い熱伝導率、および化学的不活性であるという評判があります。このため、高性能熱成分のための優れたコーティング材料です。
この製品のユニークな革新は、SICコーティングの窒素ドーピングです。化学蒸気堆積(CVD)プロセス中に、窒素原子はSIC格子に埋め込まれ、自由キャリアを生成し、表面抵抗率を劇的に低下させる可能性があり、したがって、SICコーティングを介してアクセスポイントを使用するのではなく、アクセスポイントを使用するのではなく、電流を直接通過させる可能性があります。
クラシックSICコーティング絶縁性であり、アクティブな電気アプリケーションの範囲で実際に制限されます。逆に、ヒーターの窒素ドープのSIC層は、古典的なSICのすべての機械的および化学的利点を維持しながら、表面抵抗が非常に低いです。導電層は非常に良好な電流均一性を提供し、ヒーター表面の熱分布を改善しながら、電力損失を最小限に抑えます。これは、エピタキシャル反応器、拡散炉、および迅速な熱加工(RTP)機器にしばしば関連する条件下での精密加熱用途に特に最適です。
イメージに示されているように、通常はスパイラルまたは蛇紋岩のヒータージオメトリは、均一な熱出力エネルギーと均一な電気荷重を生成する目的で設計および最適化されています。グラファイトの統合された設計と導電性SICコーティングを使用すると、追加の電極または金属接続の必要性を排除するコーティングされた表面に直接電気接点を作成できます。これにより、汚染のリスクが減少し、アセンブリが単純になります。その結果、全体的な効率が向上します。
導電性の重要な利点SICコーティンググラファイトヒーター含む:
窒素ドーピングによる優れた電気伝導率、直流の流れと効率的な抵抗加熱を可能にします。
表面積全体にわたって正確な温度制御を伴う優れた熱均一性。
特に水素、アンモニア、ハロゲンが豊富な雰囲気などの腐食性環境での高耐薬品性。
最小限の粒子生成、半導体製造の厳しい純度要件を満たします。
グラファイトコアとSICコーティングの両方の機械的な耐久性と熱衝撃耐性により、拡張されたサービス寿命。
このヒーターのアプリケーションは、多くの高度なテクノロジー業界に拡張されています。ヒーターは、化学蒸気堆積(CVD)、分子ビームエピタキシー(MBE)、および材料の正確な温度制御と純度が重要であるウェーハアニーリングなどの半導体製造プロセスの場所を見つけます。 SICコーティンググラファイトヒーターは、太陽光発電生産、高度なセラミックの焼結、より高い性能、耐久性、堅牢なヒーターが必要な他の熱プロセスでも使用できます。
要約すると、導電性SICコーティンググラファイトヒーターは、熱成分の開発における印象的な進歩です。窒素をドープしたSICコーティングを使用することにより、SICコーティングの化学的安定性を電気伝導率と組み合わせた効果的な熱産物を開発しました。したがって、最も要求の厳しい産業用アプリケーションに対して、より効率的で、よりクリーンで、より信頼性の高い熱プロセスを生産します。半導体および材料産業は継続的な変化に直面しており、この種のハイブリッド材料は、製造のための将来のより高度な技術を可能にする上でますます重要になります。
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