CVDおよびCVI真空炉

Semicorex CVD および CVI 真空炉は、化学蒸着 (CVD) プロセス用に設計された高品質のツールです。反応温度は2200℃まで上昇します。炭化ケイ素、窒化ホウ素、グラフェンなどを含む幅広い材料を堆積できます。 CVD炉は堅牢な設計と高品質の材料で作られており、長期使用に対する信頼性と耐久性を保証します。水平構造と垂直構造の両方があります。

応用：C/Cコンポジットブレーキディスク、るつぼ、金型など

セミコレックスCVD・CVI真空炉の特長

1.長期使用のための高品質素材で作られた堅牢な設計。

2.マスフローコントローラーと高品質バルブの使用により、正確に制御されたガス供給。

3.安全で信頼性の高い操作のための過熱保護やガス漏れ検出などの安全機能が装備されています。

4.複数の温度制御ゾーンを使用し、優れた温度均一性を実現します。

5.優れたシール効果と優れた汚染防止性能を備えた特別に設計された堆積チャンバー。

6.均一なガス流を備えた複数の堆積チャネルを使用し、堆積のデッドコーナーがなく、完全な堆積表面を実現します。

7.蒸着プロセス中のタール、固体ダスト、有機ガスに対する処理が施されています。

オプション機能:

●炉扉：ネジ式・油圧式・手動昇降式、スイング式・平行開き（大型）

炉のドア);手動で締める/自動ロックリングで締める

・炉容器：オール炭素鋼/内層ステンレス鋼/オールステンレス鋼

•炉のホットゾーン：ソフトカーボンフェルト/ソフトグラファイトフェルト/硬質複合フェルト/CFC

•発熱体およびマッフル:静水圧プレスグラファイト/高純度、強度および密度のグラファイト/微細サイズグラファイト

• プロセスガスシステム: 体積/質量流量計

・熱電対：Kタイプ/Nタイプ/Cタイプ/Sタイプ

*上記のパラメータはプロセス要件に合わせて調整できますが、合格基準、詳細仕様としてではありません。技術提案書や契約書に明記されます。