GaNの応用

窒化ガリウム (GaN) にはさまざまな種類があります。シリコン上の窒化ガリウム 最も話題になっている。この技術には、シリコン基板上に GaN 材料を直接成長させることが含まれます。従来のGaN基板と比較して、シリコン上の窒化ガリウム 明確な技術的特徴を持っています。既存のシリコン処理装置と製造プロセスを活用することで、低コストで大規模な製造が可能となり、大きな市場潜在力をもたらします。

GaN の利点:

- オン抵抗が低くなり、伝導損失が減少します

- スイッチング速度が速くなり、スイッチング損失が減少します

- 静電容量が小さくなり、充放電時の損失が減少します。

- 回路の駆動に必要な電力が少ない

- プリント基板上のソリューションの設置面積を削減する小型デバイス

- 全体的なコストの削減

窒化ガリウムさまざまなアプリケーションシナリオがあります。エネルギーエレクトロニクスの分野では、高周波スイッチング電源、ソーラーインバーター、電気自動車の充電器などに広く使用されています。窒化ガリウムはその高い出力と効率により、強化された電力変換および制御機能を提供し、エネルギーエレクトロニクスの新たな可能性を開きます。

もう 1 つの主要なアプリケーション領域は、特に 5G テクノロジーの発展に伴う通信です。窒化ガリウムは「5G時代の強力なエンジン」として機能します。 5G ワイヤレス通信では、より高い周波数とより広い帯域幅を提供できるため、より高速な速度とより安定した信号が得られます。これは、高速かつ低遅延の無線通信を実現するために重要です。

さらに、窒化ガリウム照明、レーザー、レーダー システム、電源管理で広く使用されています。テクノロジーが成熟し、コストが低下し続けるにつれて、より多くの分野でますます重要な役割を果たすことが期待されています。