高純度グラファイトプレートの簡単な紹介

半導体、太陽光発電、新エネルギーなどのハイエンド製造分野には欠かせない素材が存在します。超高純度で、極度の高温に対する耐性と耐腐食性を備えています。単結晶炉のコア熱分野に広く応用されており、チップの精密製造プロセスを容易にします。この高性能素材は高純度グラファイトプレートです。

高純度黒鉛プレートとは、石油コークス、ピッチコークス、高純度天然黒鉛などの高級原料を、焼成、混練、成形、焼成、高温黒鉛化（2800℃以上）、精製といった一連の製造工程を経て製造される板状炭素材料です。高純度グラファイトプレートの主な利点はその卓越した純度であり、その総不純物含有量は通常 10 ～ 50 ppm 未満に制御されます。これは、不純物が材料の 50 ppm 以下であることを意味します。

なぜ高純度グラファイトプレートが求められているのでしょうか?

高純度グラファイトプレートの広範な用途は、その 6 つの核となる特性に由来しており、それぞれがハイエンド製造の厳しい要件を完全に満たしています。

1.超高純度のため、灰分が極めて低く、高温でも不純物の揮発がなく、半導体ウエハ製造などの精密製造プロセスの汚染を防ぎます。

2.耐高温性に優れ、不活性または真空環境下で3000℃まで安定して動作します。

3. 熱伝導率、電気伝導性に優れており、熱伝導率は約120～150W/(m・K)、電気伝導率は銅の70％に近い。

4.化学的安定性が高く、強酸、アルカリ、腐食性の高い媒体に対して耐性があり、溶融金属に対してもほとんど反応しません。

5.低い熱膨張係数、高い耐熱衝撃性、高い寸法精度を特徴とする強い熱安定性。

6.機械加工が容易で、さまざまな用途シナリオに適しています。

高純度黒鉛板の主な用途

高純度グラファイトプレートの用途は、携帯電話チップや太陽電池から航空宇宙や新エネルギー車に至るまで、長い間私たちの生活のあらゆる側面に浸透してきました。

1. 基本的な高級分野からの3Nグレード（純度99.9％）

このグレードはコスト効率が高く、通常のハイエンド製造のニーズを満たしており、冶金、真空炉、熱処理、精密鋳造金型、一般的なグラファイト製品、反応器ライニング、熱交換器プレート、シールなどの化学防食コンポーネントで広く使用されています。

2. 太陽光発電や新エネルギーの核となる4Nグレード（純度99.99％）

現在最も広く使用されているグレードとして、発熱体、絶縁カバー、ガイドシリンダーなどの太陽光発電単・多結晶炉の熱分野の中核部品、太陽電池製造用キャリアプレート、負極集電体や導電性基板などのリチウム電池、燃料電池用バイポーラプレート、半導体補助部品などに応用されています。

3. 半導体およびハイエンドエレクトロニクス向けの 5N グレード (純度 99.999%)

半導体ウェーハ製造（ヒーター, るつぼ、単結晶炉用キャリア）、チップ製造プロセス（エッチング機用フォーカスリング、蒸着装置用トレイ）、ハイエンドエレクトロニクス用熱フィールド、および光学コーティング。非常に高い純度が要求され、チップ業界の中核材料の 1 つです。

上記の用途に加えて、高純度グラファイトプレートは、航空宇宙産業のロケットノズルや航空エンジンの断熱部品、原子力産業の中性子減速材や原子炉の制御棒、EDM電極、高温ヒートシンクなどの精密産業でも使用されています。