真空炉用のグラファイト製品

グラファイト製品等張性グラファイト、多孔質グラファイト、フェルトなどを含む半導体製造プロセスにおける重要で不可欠なコンポーネントです。真空炉の一般的なタイプのグラファイト製品：

1. グラファイト加熱要素

使用：真空炉のコア加熱要素として、均一な高温環境を提供します。

タイプ：グラファイトロッド、グラファイトチューブ、グラファイトプレート、グラファイトベルトなど。

特徴：高温抵抗（最大3000°C）、酸化抵抗、および安定した抵抗率。

2。グラファイト絶縁層（断熱層）

使用：熱損失を減らし、炉の温度均一性を改善します。

タイプ：グラファイトスクリーン、グラファイトライニング, グラファイトフェルト、グラファイトハードフェルトなど。

特徴：熱伝導率、軽量、高温抵抗。

3。グラファイトるつぼ

使用：金属の製錬、結晶成長、または高温化学反応に使用されます。

タイプ：高純度のグラファイトるつぼ、アイソスタティックグラファイトるつぼ.

特徴：高純度（低い灰含有量）、良好な熱衝撃耐性。

4。グラファイトサポートとコネクタ

使用：加熱要素を修正するか、ワークピースをキャリーします。

タイプ：グラファイトボルト、グラファイトナット、グラファイトブラケット、など

特徴：高強度、高温変形抵抗。

5。グラファイト電極

使用：真空炉の電流伝導に使用します。

タイプ：円筒形、正方電極。

特徴：抵抗率が低く、機械的強度が高い。

6. グラファイトボートとキャリア

使用：高温処理（焼結、アニーリングなど）のワークピースをキャリーします。

タイプ：グラファイトボックス、グラファイトプレート、グラファイトラックなど。

特徴：高温抵抗、化学腐食抵抗。

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